產(chǎn)水水質(zhì):電阻率≥18Ω·m
主要工藝:預(yù)處理+兩級(jí)反滲透+EDI系統(tǒng)+拋光混床系統(tǒng)
占地面積:150-180平方米
適用行業(yè):光電產(chǎn)業(yè)、電子產(chǎn)業(yè)、3C產(chǎn)業(yè)、新能源產(chǎn)業(yè)、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、航天軍工產(chǎn)業(yè)等
工藝特點(diǎn):
1.PLC全自動(dòng)控制
2.觸摸屏動(dòng)態(tài)顯示各級(jí)運(yùn)行狀態(tài)
3.帶遠(yuǎn)程監(jiān)控系統(tǒng)">

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工業(yè)超純水設(shè)備180T/H+2RE

工業(yè)超純水設(shè)備180T/H+2RE

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上架時(shí)間:2022-05-26

產(chǎn)水規(guī)模:180噸每小時(shí)
產(chǎn)水水質(zhì):電阻率≥18Ω·m
主要工藝:預(yù)處理+兩級(jí)反滲透+EDI系統(tǒng)+拋光混床系統(tǒng)
占地面積:150-180平方米
適用行業(yè):光電產(chǎn)業(yè)、電子產(chǎn)業(yè)、3C產(chǎn)業(yè)、新能源產(chǎn)業(yè)、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、航天軍工產(chǎn)業(yè)等
工藝特點(diǎn):
1.PLC全自動(dòng)控制
2.觸摸屏動(dòng)態(tài)顯示各級(jí)運(yùn)行狀態(tài)
3.帶遠(yuǎn)程監(jiān)控系統(tǒng)

產(chǎn)品特點(diǎn):

1.產(chǎn)水量:180T/H

2.主要工藝:自來(lái)水→原水箱→原水泵→還原劑加藥裝置→石英砂過(guò)濾→活性炭過(guò)濾→阻垢劑加藥裝置→保安過(guò)濾器→

一級(jí)高壓泵→一級(jí)反滲透系統(tǒng)→一級(jí)水箱→PH調(diào)節(jié)劑→二級(jí)高壓泵→二級(jí)反滲透系統(tǒng)→二級(jí)水箱→EDI增壓泵→

TOC脫除器→精密過(guò)濾器→EDI系統(tǒng)→純水泵→UV滅菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)

3.設(shè)備配有一級(jí)、二級(jí)反滲透藥洗裝置

4.一級(jí)反滲透濃水直排,二級(jí)反滲透回收至原水箱,EDI濃水排放水回收至一級(jí)水箱

5.控制系統(tǒng)采用PLC全自動(dòng)控制方式,操作簡(jiǎn)易

6.人機(jī)監(jiān)控畫(huà)面友好直觀,故障點(diǎn)描述直觀,并提供相關(guān)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)功能

7.采用進(jìn)口陶氏BW30-400反滲透膜,節(jié)能環(huán)保,壽命長(zhǎng)

8.不銹鋼變頻恒壓純水泵,保證設(shè)備24小時(shí)不間斷供水


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一般用于電子光學(xué)行業(yè)生產(chǎn)用水,如半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝用水、電子試劑用水,電子管涂敷配液用水、液晶顯示器屏面清洗用水、硅片清洗用水、光學(xué)鏡片清洗用水、各種高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模集成電路等生產(chǎn)用水需求。